倍強科技股份有限公司

統一編號 23549000
得標案件
60
投標案件
60
得標率 100%
累計得標金額
活動期間
2000-04-20 ~ 2009-05-26

投標紀錄

狀態 標案名稱 / 機關 類別 金額 截止/決標 得標廠商
已決標 電漿輔助化學氣相沈積系統
2000-04-20決標公告
倍強真空科技股份有限公司
已決標 真空濺鍍系統維修
2000-05-12決標公告
倍強真空科技股份有限公司
已決標 真空蒸鍍系統1套
2000-05-24決標公告
倍強真空科技股份有限公司
已決標 離子源及相關配備
核能研究所 NS890994
2000-06-07決標公告
倍強真空科技股份有限公司
已決標 EB焊槍設備擴建等1項
2000-06-08決標公告
倍強真空科技股份有限公司
已決標 射頻濺鍍系統改良與組裝 財物類 儀器及實驗室設備
2000-07-28決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 真空退火爐
2000-08-10決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 油囊橡、塑膠表處用電漿濺鍍機1項
2000-09-13決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 真空系統
2000-10-04決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 高真空濺鍍系統
2000-10-13決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 蒸鍍機升級
2000-11-20決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 電子束蒸鍍機 *1ST
2001-01-11決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 真空蒸渡系統(高氣密乾燥箱)
2001-03-05決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 熱蒸鍍系統一套
2001-04-13決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 自動抽氣系統及多層膜自動鍍膜
2001-05-15決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 壓電/壓磁薄膜製造系統
逢甲大學 8900028
2001-05-28決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 離子電漿蝕刻機壹套
2001-08-09決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 高真空濺鈧沉積系統等1項
2001-08-17決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 反應式離子蝕刻機 HRIE-R
2001-12-19決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 濺鍍設備
中科院一所 XW91261P
2002-05-10決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 電感耦合活性離子蝕刻機
2002-07-02決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 化學氣相沉積系統(含自動控壓閥與精密質流計)
2002-07-10決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 離子束濺鍍系統離子源等1項
2002-06-26決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 感應式耦合電漿離子反應蝕刻系統一套 財物類 儀器及實驗室設備
2002-08-19決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 高真空物理濺鍍系統壹套
2002-08-26決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 FE13(SMPW)前端區Shutter Chamber建造
2002-09-12決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 陀螺抽真空系統維修
2002-09-19決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 機械導引
2002-10-17決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 電子槍電源供應器一套
2002-10-03決標公告
倍強科技股份有限公司
已決標 RF/DC雙靶濺鍍機
2002-10-11決標公告
倍強科技股份有限公司

歷年得標統計

年度投標得標得標率得標金額
200933100%
200622100%
200533100%
20041313100%
200366100%
20021414100%
200188100%
20001111100%

競爭對手分析

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