暉銘企業有限公司

統一編號 28082538
得標案件
2
投標案件
36
得標率 6%
已收錄得標金額
—
依已收錄金額加總,可能未涵蓋全部得標案件。
活動期間
2006-05-10 ~ 2012-05-24

投標紀錄

狀態 標案名稱 / 機關 類別 金額 截止/決標 得標廠商
已決標 Primary電子束流位置偵測器不鏽鋼腔體
—
2012-05-24決標公告
立晟精密有限公司
已決標 增能環真空腔支架
—
2012-05-17決標公告
禾鉦有限公司
已決標 前端區重金屬遮斷器腔體 財物類 其他特殊用途之機具及其零件
—
2011-09-21決標公告
鴻舜科技股份有限公司
已決標 儲存環光束遮擋吸收器真空腔
—
2011-08-25決標公告
暉銘企業有限公司
已決標 蒸鍍源等1項
—
2010-09-30決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 應光系高真空熱蒸鍍系統一套 財物類 儀器及實驗室設備
—
2009-12-24決標公告
暉銘企業有限公司
已決標 射頻磁控薄膜沉積系統
—
2009-08-27決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 高真空腔體一套
—
2009-08-24決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 電漿處理系統一組
—
2009-05-19決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 高真空蒸鍍機
—
2009-05-05決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 高真空多靶式磁控濺鍍系統1台
—
2009-04-14決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 原子層氣相沉積系統一套
—
2009-03-18決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 蒸鍍機擴充磁控電漿源一組
—
2009-03-10決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 高真空鍍膜機 詳規範 X 1 ST.
長庚大學 D-740M16
—
2008-11-17決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 奈米粉體成長三段式真空高溫爐1套
—
2008-11-05決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 多靶式磁控濺鍍系統壹套
國立成功大學 097-01-510
財物類 儀器及實驗室設備
—
2008-10-29決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 真空鍍膜系統
—
2008-09-12決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 場發射量測系統壹組
國立成功大學 097-01-262
—
2008-08-01決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 RF電源供應器與濺鍍源一組採購案
—
2008-07-15決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 有機鍍膜系統1台
—
2008-06-24決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 CYAD97023精密機械與製造科技系「四英吋高溫爐真空系統」購案 財物類 儀器及實驗室設備
—
2008-06-11決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 蒸鍍機一台
—
2007-12-31決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 離子轟極切割系統 一台
—
2007-12-28決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 石英振盪冷卻系統壹套
—
2007-11-07決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 太空電漿離子束系統之十向漂移管系統壹套
—
2007-11-06決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 精密機械與製造科技系「高真空高溫熱蒸鍍系統」購案 財物類 儀器及實驗室設備
—
2007-10-15決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 高真空電子束蒸鍍系統乙套
—
2007-08-29決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 大氣電漿反應器一套 財物類 儀器及實驗室設備
—
2007-07-10決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 機械工程系「高真空濺鍍系統」購案 財物類 儀器及實驗室設備
—
2007-06-06決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 高密度電漿蝕刻系統及週邊配件 財物類 儀器及實驗室設備
—
2006-11-07決標公告
高敦科技股份有限公司

歷年得標統計

年度投標得標得標率得標金額
2012200%—
20112150%—
2010100%—
20098112%—
2008800%—
2007800%—
2006700%—

金額依已收錄資料加總,可能未涵蓋全部得標案件;「—」表示沒有可顯示的金額,不能據此判定契約金額為零。

競爭對手分析