標案智庫

源祥真空科技有限公司

統一編號 80743834
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得標案件
16
投標案件
18
得標率 89%
已收錄得標金額
—
依已收錄金額加總，可能未涵蓋全部得標案件。
活動期間
2004-09-13 ～ 2011-12-07

投標紀錄

全部只看得標
狀態 標案名稱 / 機關 類別 金額 截止／決標 得標廠商
已決標 高真空系統
國立臺灣大學 1000973
—
2011-12-07決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 真空鍍膜(腔體)系統
國立臺灣大學採購組 980723
財物類 儀器及實驗室設備
—
2009-09-22決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 渦輪分子真空幫浦
中央研究院原子與分子科學研究所 973056
—
2008-09-24決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 林口校區數理學科直流電源供應器一台
國立臺灣師範大學 NU19708061176
—
2008-09-08決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 離子反應器系統
國立臺灣大學採購組 970353
—
2008-06-20決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 膜厚計（膜厚量測儀）一台
國立臺灣科技大學 CHSC-97076
—
2008-04-24決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 磁控電漿源
交通大學應用化學系 96n280-005
—
2008-01-10決標公告
高敦科技股份有限公司
已決標 微量反應氣體量測系統
國立臺灣師範大學 NU1961105806
—
2007-12-03決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 多功能氣相沉積系統一套
國立臺灣科技大學 CHSC-96341
—
2007-11-13決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 控制材料表面及介面能之化學氣相沉積系統一套
國立臺灣科技大學 CHSC-96337
—
2007-11-12決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 雙槍磁控電漿濺鍍系統一台
國立中興大學總務處事務組 96E-081
財物類 儀器及實驗室設備
—
2007-10-25決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 RF電漿產生器一台
國立中興大學總務處事務組 96E-083
財物類 儀器及實驗室設備
—
2007-10-15決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 真空腔體 (詳規範)*1ST
明志科技大學 E-6F0324
—
2007-07-31決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 基板加熱器(詳規範)*1ST
明志科技大學 E-6F03D6
—
2007-07-31決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 濺鍍槍底盤
台灣大學理學院─物理學系 94phys012
—
2006-02-09決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 超高真空花樣膜濺鍍系統輔助腔體：一對四同步聚焦式高真空磁控式濺鍍腔
國立臺灣大學採購組 94265
財物類 儀器及實驗室設備
—
2005-06-01決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 真空元件-奈米針尖合成設備
中央研究院原子與分子科學研究所 943007
財物類 儀器及實驗室設備
—
2005-03-09決標公告
源祥真空科技有限公司
已決標 電漿增強化學氣相沉積系統
私立明新科技大學 CHEM004
財物類 財物類其它
—
2004-09-13決標公告
津鏹科技實業有限公司

歷年得標統計

年度投標得標得標率得標金額
201111100%—
200911100%—
20085480%—
200777100%—
200611100%—
200522100%—
2004100%—

金額依已收錄資料加總，可能未涵蓋全部得標案件；「—」表示沒有可顯示的金額，不能據此判定契約金額為零。

競爭對手分析

對手同場競標對方得標本廠商得標
高敦科技股份有限公司110
旨昇工業有限公司101
津鏹科技實業有限公司110